技術(shù)特點(diǎn) Features
· 低壓與熱壁工藝特性,成膜均勻性、致密性好。
· LPCVD工藝特性,基片密排對成膜速率影響小,單管裝片量大。
· 更多溫區(qū)設(shè)置,可靠保證片間均勻性。
· 獨(dú)立調(diào)節(jié)分段進(jìn)氣,彌補(bǔ)氣流耗盡效應(yīng)。
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